Keana Nadeshiko Pore Hiding Makeup Base – Gładka, nawilżająca baza pod makijaż dla nieskazitelnej cery 12g [Bez alkoholu]

Gdzie się podziały Twoje pory? Wygładź niedoskonałości i uzyskaj jedwabiście gładką skórę dzięki Keana Nadeshiko Pore Hiding Makeup Base — kremowej japońskiej bazie pod makijaż, która natychmiastowo maskuje pory i wyrównuje strukturę skóry. Formuła zawiera składniki nawilżające, takie jak jedwab, serycyna, hydrolizowany jedwab, kolagen oraz kwas hialuronowy, które wygładzają nierówności i zapewniają trwałość makijażu od rana do wieczora.

Lekka, puszysta konsystencja łatwo się rozprowadza, nie obciążając skóry, i daje naturalne, bezporowe wykończenie. Idealna dla skóry normalnej, aby zredukować błyszczenie i poprawić wygląd rozszerzonych lub nierównych porów.

Sposób użycia:

1. Po zastosowaniu lotionu lub pielęgnacji, nałóż niewielką ilość produktu na opuszek palca.

2. Delikatnie wklep w miejsca z widocznymi porami lub nierównościami skóry.

3. Nałóż podkład lub krem BB jak zwykle.
   Wskazówka: używaj oszczędnie i dokładnie rozprowadzaj dla najlepszych rezultatów.

Najważniejsze informacje:
Waga: 12g
Rodzaj produktu: Baza pod makijaż (primer)
Typ skóry: Skóra normalna, nierówna struktura, widoczne pory
Konsystencja: Krem
Krycie: Pełne krycie porów i wygładzenie struktury
Zapach: Bezzapachowy
Sztuczne barwniki: Zawiera pigmenty mineralne (np. dwutlenek tytanu, tlenki żelaza)
Alkohol (etanol): Nie
Rodzaj wykończenia: Naturalne wykończenie
Cechy szczególne: Nawilżająca, wygładzająca pory, zapewniająca długotrwały makijaż

Składniki (INCI):
Dimethicone, Cyclopentasiloxane, Dimethicone/Vinyl Dimethicone Crosspolymer, Acrylates Crosspolymer, Vinyl Dimethicone/Methicone Silsesquioxane Crosspolymer, Trimethylsiloxysilicate, Isononyl Isononanoate, Dimethyl Silylated Silica, Silk, Sericin, Hydrolyzed Silk, Hydrolyzed Collagen, Soluble Collagen, Sodium Hyaluronate, Water-Soluble Collagen Crosspolymer, Triethoxycaprylylsilane, Water, Butylene Glycol, Hydrogen Dimethicone, Methicone, Phenoxyethanol, Titanium Dioxide, Talc, Iron Oxides, Aluminum Hydroxide

Środki ostrożności:

• Nie stosować na uszkodzoną lub podrażnioną skórę.

• W przypadku zaczerwienienia, obrzęku, swędzenia lub podrażnienia przerwij stosowanie.

• Unikać kontaktu z oczami. W razie dostania się do oczu natychmiast przemyć wodą.

• Nie przechowywać w miejscach bardzo gorących, zimnych ani w bezpośrednim świetle słonecznym.

• Po użyciu dokładnie zamknąć opakowanie. Nie wkładać użytego produktu z powrotem do pojemnika.

• Trzymać z dala od dzieci.

Uwaga dodatkowa:
W przypadku braku produktu lub jego wycofania, może zostać usunięty z zamówienia.

Uzyskaj efekt skóry bez porów i miękkie wykończenie, które utrzyma się cały dzień. Keana Nadeshiko Pore Hiding Makeup Base to must-have baza pod makijaż dla gładkiej cery i nieskazitelnego wyglądu — dostępna teraz w Wabi-Sabi Store.